- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtements; galvanoplastie; jonction de pièces par électrolyse; appareillages à cet effet
- C25D 3/02 - Dépôt électrochimique; Bains utilisés à partir de solutions
Détention brevets de la classe C25D 3/02
Brevets de cette classe: 191
Historique des publications depuis 10 ans
|
16
|
31
|
19
|
17
|
9
|
13
|
14
|
4
|
16
|
7
|
| 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| BASF SE | 19740 |
12 |
| MacDermid Enthone Inc. | 237 |
7 |
| Duksan High Metal Co., Ltd. | 60 |
5 |
| Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
5 |
| Ebara Corporation | 1951 |
4 |
| Ymt Co., Ltd. | 30 |
4 |
| Rtx Corporation | 8674 |
4 |
| Applied Materials, Inc. | 16587 |
3 |
| ACM Research (Shanghai) Inc. | 205 |
3 |
| College de France | 107 |
3 |
| Nanotecture Ltd | 11 |
3 |
| Paris Sciences et Lettres - Quartier Latin | 170 |
3 |
| Baker Hughes Incorporated | 5689 |
2 |
| The Regents of the University of California | 18943 |
2 |
| Dow Global Technologies LLC | 10147 |
2 |
| Asia Electronic Material Co., Ltd. | 8 |
2 |
| Atotech Deutschland GmbH | 586 |
2 |
| Carbodeon Ltd Oy | 28 |
2 |
| COVENTYA, Inc. | 8 |
2 |
| Enthone Inc. | 65 |
2 |
| Autres propriétaires | 119 |